サーモ理工-瞬間アニール炉-卓上型で真空、ガスフロー中加熱
  TOP製品案内 > 赤外線真空炉 IVFシリーズ
真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
赤外線放射部、真空チャバー、プログラム温度制御器、安全装置で構成した卓上型赤外線真空炉です。
真空チャンバー型と石英管フランジ型があります。
 
最高昇温速度 150℃/sec、加熱時間 1500℃まで約1min
熱源からの放出ガスや電磁誘導の影響を与えないクリーン加熱
高温の試料を観察できるオプションも用意しています。
真空中/ガスフロー中での試料アニール
シリコン、SiC等半導体試料や酸化物の熱処理
グラフェン、CNTの加熱
高耐熱金属、セラミックス等超高温材料の昇温試験
酸素、水素等のガスフロー中アニール
濡れ性試験
赤外線真空炉IVFシリーズには、下記仕様の製品があります。
 石英管式 RV型  ガスフロー中試料加熱に最適です。
 対面照射石英管式 CV型  上下から赤外線を照射します。
 固形物、粉体の加熱に。
 集光照射式 W型  大きく開くハッチにより試料の出し入れが簡単。
 多数のポート付きチャンバーがあり、各種実験に対応。
 面照射式 P型/PD型  2インチサイズ試料の加熱用。
 石英管式赤外線真空炉 IVF-RV型
モデル名 IVF198RV IVF298RV
 赤外線ランプ定格 1kW 2kW
 最高到達温度 1400℃ 1600℃
 加 熱 面 積 φ20mm
 最大昇温速度 50℃/sec 100℃/sec
 最大到達真空度 5×10-4Pa
 冷 却 水 量 1L/min 2L/min
IVF298RV
 対面照射石英管式赤外線真空炉 IVF-CV型
モデル名 IVF198CV IVF298CV
 赤外線ランプ定格 1kW 2kW
 最高到達温度 1500℃ 1700℃
 加 熱 面 積 φ10mm×10mm φ15mm×10mm
 最大昇温速度 50℃/sec 100℃/sec
 最大到達真空度 5×10-4Pa
 冷 却 水 量 1L/min 2L/min
IVF298CV
 集光照射式赤外線真空炉 IVF-W型
モデル名 IVF198W IVF298W
 赤外線ランプ定格 1kW 2kW
 最高到達温度 1300℃ 1500℃
 加 熱 面 積 〜φ20mm
 最大昇温速度 50℃/sec 100℃/sec
 最大到達真空度 5×10-4Pa
 冷 却 水 量 1L/min 2L/min
IVF298W
 面照射式赤外線真空炉 IVF-P/PD型
モデル名 IVF29P IVF29PD IVF39PD
 赤外線ランプ定格 2kW 2kW×2 3kW×2
 最高到達温度 800℃ 1000℃ 1200℃
 加 熱 面 積 φ50mm
 最大昇温速度 20℃/sec 50℃/sec
 最大到達真空度 5×10-4P
 冷 却 水 量 2L/min
IVF29P IVF39PD
石英管式 赤外線真空炉 IVF-RV型
対面照射石英管式 赤外線真空炉 IVF-CV型
集光照射式 赤外線真空炉 IVF-W型
面照射式 赤外線真空炉 P型 / PD型
透明石英製炉心管内に試料を設置し、上部から赤外線を照射、昇温します。
熱源の赤外線ランプが炉心管の外にあるため、熱源からの汚染の心配が無く、試料のクリーン加熱ができます。
真空フランジ部分のNW40と1/4パイプ継手を使用して、真空置換後にガスフローしながら試料を加熱することができます。
ユニット追加により、CV型へシステムアップできます。
 
  IVF298RV    
 
透明石英ガラス製炉心管内に試料を設置し、上下から赤外線を照射、昇温します。
RV型より、さらに高温で加熱できます。
熱源の赤外線ランプが炉心管の外にあるため、熱源からの汚染の心配が無く、試料のクリーン加熱ができます。
固形物や粉体試料の加熱に最適です。
 
  IVF298CV   
 
8個のポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用したモデルです。
上面が大きく開き、試料の設置やチャンバー内作業が容易にできます。
 
上部から赤外線を照射するP型、上下両面から加熱するPD型があります。
2インチの試料を、ほぼ均一に昇温することができます。
IVF29P   IVF29P-ill
 
    IVF39PD   IVF39PD-ill
※ PD型は、床置型になります。